Новый патент улучшает производство чипов для носимой электроники
Заявка US20240123456A1 описывает способ, при котором диэлектрические слои формируются только на нужных материалах, упрощая создание микроструктур.
Это критично для производителей чипов в умных часах, трекерах и IoT-устройствах.
Бренды на маркетплейсах получат более мощную и энергоэффективную электронику.
Подписывайся и сайт www.tmark.pro
