Intel патентует метод улучшения измерения полупроводников
Патент US20240123456A1 описывает метод измерения асимметрии амплитуды в системах оптической метрологии.
Эта технология позволит точнее анализировать наложение микроструктур в полупроводниковых устройствах — критично для тех, кто работает с контролем качества чипов.
Следи за новыми возможностями для стартапов в сфере e-commerce электроники.
Подписывайся на сайт www.tmark.pro
