Zeiss патентует лазерную очистку оптики для EUV-литографии
Zeiss запатентовал способ обработки EUV-оптики с помощью серии сверхкоротких лазерных импульсов — патент EP4187643A1.
Такие технологии критичны для производства полупроводников, и будут влиять на развитие чипов и всех производителей электроники.
Следи за инновациями — они рождают новые рынки.
Подписывайся на сайт www.tmark.pro
