Новый патент для защиты чипов от нежелательных покрытий
Япония подала патент JP2024145678A на химический состав, который предотвращает образование ALD-плёнок на чипах.
Это открытие может изменить подход к производству полупроводников — менее затратный и более управляемый процесс.
Стартапам и брендам в сфере электроники стоит следить за развитием и возможностями лицензирования.
Подписывайся на сайт www.tmark.pro
