Патент на многоуровневое фокусирующее кольцо для плазменной обработки
Подана заявка на патент US20240123456A1: многоуровневое фокусирующее кольцо для плазменной обработки чипов.
Оно включает двухслойную структуру с повторяющимися рельефами, обеспечивающими лучшую фиксацию и износостойкость.
Для производителей оборудования это шаг к надёжности, а для игроков e-commerce — сигнал о росте спроса на качественные комплектующие.
Подписывайся на сайт www.tmark.pro
